- 氧氮?dú)涮剂虻仍胤治鰞x
- 光譜儀,光度計(jì),光譜分析儀
- 金相顯微制樣檢驗(yàn)分析儀
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- 工業(yè)顯微鏡及光學(xué)測(cè)量裝置
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- 質(zhì)譜儀及各類聯(lián)用儀
- 行業(yè)檢測(cè)儀器
- 制樣及前處理設(shè)備
- 配件耗材及配套產(chǎn)品
▲高性能電子光學(xué)系統(tǒng)
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)＊
高靈敏度: PD-BSD, 強(qiáng)的低加速電壓性能，低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于微區(qū)分析
▲性能優(yōu)良
壓力可變: 具有優(yōu)的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)＊
開倉室快速簡(jiǎn)單換樣(大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
*選配附件
日立熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000規(guī)格：
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項(xiàng)目 |
內(nèi)容 |
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分辨率 |
1.2 nm @ 30 kV |
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放大倍率 |
10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) |
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電子光學(xué)系統(tǒng) |
電子槍 |
ZrO /W 肖特基式電子槍 |
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加速電壓 |
0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進(jìn)) |
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著陸電壓 |
減速模式: 0.1 - 2.0 kV ＊1 |
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大束流 |
> 200 nA |
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探測(cè)器 |
低位二次電子探測(cè)器 |
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低真空模式*2 |
真空范圍: 10 - 300 Pa |
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馬達(dá)臺(tái) |
馬達(dá)臺(tái)控制 |
5 - 軸自動(dòng) (優(yōu)中心) |
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可動(dòng)范圍 |
X：0～100mm |
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大樣品尺寸 |
大直徑: 200 mm |
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選配探測(cè)器 |
高分辨率頂位二次電子探測(cè)器＊1 高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD) 5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)*3 能譜儀 (EDS) 波譜儀 (WDS) 背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD) |
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*1：減速功能（包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器）
*2：低真空功能（包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器）
*3：空壓機(jī)(本地采購)
